DIL 502 Expedis® Classic
DIL 502 Expedis® Classic nudi najsavremeniju tehnologiju dilatometra uz najbolji odnos cene i performansi
Karakteristike
Širok temperaturni opseg; Besprekorno radi od sobne temperature do 1600°C i može da obradi čak i najzahtevnije materijale.
Izuzetan opseg i rezolucija merenja; NanoEye optoelektronski sistem za merenje pomeraja pruža izuzetnu linearnost i rezoluciju na nanometarskom nivou, beležeći čak i najsitnije dimenzionalne promene.
Konzistentni i pouzdani rezultati svaki put; Automatska detekcija dužine uzorka eliminiše greške pri ručnom merenju automatskim detektovanjem početne dužine uzorka pre ispitivanja.
Mogućnost visoke propusnosti; Opcione konfiguracije sa dve peći i dvostrukim mernim sistemom omogućavaju vam da istovremeno testirate više uzoraka, ubrzavajući vaš radni proces.
Rad bez održavanja; Projektovan za maksimalno vreme neprekidnog rada uz minimalno održavanje, kako bi se povećala operativna efikasnost vaše laboratorije.
MultiTouch tehnologija obezbeđuje stabilno pozicioniranje uzorka: Postignite stabilizovano, ponovljivo postavljanje uzorka pomoću jedinstvenog kretanja nalik repu kod MultiTouch sistema, koje optimizuje pozicioniranje i povećava pouzdanost merenja.
Kompaktan All-in-One dizajn; Eliminiše potrebu za dodatnim rashladnim uređajima (čilerima) ili eksternim jedinicama za napajanje, stvarajući uredan radni prostor bez nereda, idealan za industrijska okruženja visokog tempa.
Više informacija na: DIL 502 Expedis Classic - NETZSCH Analyzing & Testing
Specifikacije
| Karakteristika | Specifikacija |
|---|---|
| Temperaturni opseg | Od sobne temperature (RT) do 1600°C |
| Peći | Kvarcno staklo (Fused Silica) Silicijum karbid (brzo hlađenje) |
| Dimenzije uzorka | Dužina: maks. 52 mm Ø 12 mm standardno (opciono maks. Ø 19 mm) Ø 8 mm u sistemu sa dvostrukim nosačem uzorka |
| Brzina zagrevanja | 0.001 … 50 K/min |
| Kontrola protoka gasa | 1-smerni ventil Opcioni 3-smerni ventil, MFC (Maseni kontroler protoka) |
| Merni opseg | ± 5000 μm |
| Opseg sile (opterećenje na uzorku) | 10 mN … 3 N (sila sabijanja i zatezanja u zavisnosti od nosača uzorka) |
| Rezolucija ΔL | 2 nm |
| Rezolucija sile | 0.001 N |
